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ㅁ | 물리증착법(物理蒸着法)

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작성자 에이앤씨 작성일17-02-25 14:23 조회703회 댓글0건

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물리증착법(物理蒸着法)
physical vapor deposition(PVD)
진공 속에서 가스화한 물질을 기본 표면에 피복하는 방법으로서, 진공 증착(眞空蒸着)과 스패터링법으로 나뉜다. PVD법이라고도 한다. 특징은 얇은 막의 두께가 균일하고 다층막(多層膜) 형성도 용이하다는 것 등이다.드라이 플레이팅이라고도 한다. 진공 중에 금속을 기화시켜 기화된 금속 원자가 산화하지 않은 채, 방해물 없이 피도금물에 도금이 된다.(1) 진공 증착법,(2) 스패터링법,(3) 이온 플레이팅법으로 분류된다. PVD법은 알루미늄, 티탄이나 고융점 재료의 도금이 가능하고, 진공 중에 금속과 비금속 원자를 이온화하여 반응시키면, 탄화 티탄, 질화 티탄, 알루미나, 질화 알루미늄, 탄화 규소 등의 내마모성, 내열성, 그 외 기능성이 있는 화합물 피막을 도금할 수 있다.