ㅍ | 플라즈마 CVD
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작성자 에이앤씨 작성일17-02-26 16:56 조회769회 댓글0건관련링크
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플라즈마 CVD
CVD process using plasma
플라즈마에 의해 반응가스를 분해하여 목적하는 물질의 박막을 기판 상에 퇴적(석출)시키는 방법을 말한다. 전자재료로의 CVD에 이용되며, 연속장치도 개발되어 있다. 기술적 진보는 플라즈마 에칭과 같다.
CVD process using plasma
플라즈마에 의해 반응가스를 분해하여 목적하는 물질의 박막을 기판 상에 퇴적(석출)시키는 방법을 말한다. 전자재료로의 CVD에 이용되며, 연속장치도 개발되어 있다. 기술적 진보는 플라즈마 에칭과 같다.